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            范 圍:
             
            標準氣體
            高純氣體
            工業氣體
            混合氣體
            超純氣體
            電子特氣
            氣體配件及其他服務

            肇慶市高能達化工有限公司
            聯系人:陳炳(經理)
            手  機:13326721519
            電  話:0758-8360850
                    0758-8360380
            傳  真:0758-8360395
            郵  編:526100
            郵  箱:gndgas@163.com
            地  址:廣東肇慶市高要南岸二期開發區上元村

            名稱:四氟化碳      型號:

            CF4四氟化碳

            簡介

              四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產,激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態,印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。由于四氟化碳的化學穩定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業;如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。

             

            應用

              以純四氟甲烷或者和氧氣混合的方式,用于在CVD過程之前,對二氧化硅、氮化硅、多晶硅和一些硅金屬化合物進行的等離子刻蝕。

             

            四氟化碳用途

              四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。對于硅和二氧化硅體系,采用CF4-H2反應離子刻蝕時,通過調節兩種氣體的比例,可以獲得451的選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。

            在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。

            由于化學穩定性極強,CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業等。

            四氟化碳的溶氧性很好,因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功,在275米到366米的深度內,小白鼠仍可安全脫險。

             

            注意事項

              四氟化碳是不燃性壓縮氣體。儲存于陰涼、通風倉間內。倉內溫度不宜超過60℃。遠離火種、熱源。防止陽光直射。應與易燃或可燃物分開存放。驗收時要注意品名,注意驗瓶日期,先進倉的先發用。搬運四氟化碳時輕裝輕卸,防止鋼瓶及附件破損。泄漏時,應迅速撤離泄漏污染區人員至上風處,并進行隔離,嚴格限制出入。建議應急處理人員戴自給正壓式呼吸器,穿一般作業工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風,加速擴散。如有可能,即時使用。漏氣容器要妥善處理,修復、檢驗后再用。

             

             商品詳細介紹

             

             

             A colorless,nonflammable,high pressure gas.(一種無色不燃高壓氣體)

             Formula(分子式):

            CF4

             

             Molecular weight(分子量):

            88

             

             Boiling point(沸點):

            -78.2℃

            -108.76°F

             Melting point(熔點):

            -100.7℃

            -149.26°F

             Vapor pressure(蒸汽壓):

            13.8MPa(21.1℃)

            2000Psia(70°F)

             Specific volume(比容):

            0.27m3/kg(21.1℃,101.325KPa) 

            4.4ft3/lb(70°F,14.696psia)

             UN Number(UN號碼):

            UN1982

             

             DOT Classification(DOT類別):

            2.2(Nonflammable Gas)(不燃性氣體)

             DOT Lable(DOT標簽):

            NON-FLAMMABLE GAS(不燃性氣體)

             Grsde(級別):

            5N

             

             Purity(純度):

            99.999%

             

             

             純度

             

             Impurity(非組分):

            Specification(標準)

             Oxygen(氧):

            ≤2.0  ppmv

             Nitrogen(氮):

            ≤5.0  ppmv

             Carbon Dioxide(二氧化碳):

            ≤0.5 ppmv

             Carbon Monoxide(一氧化碳):

            ≤0.5 ppmv

             Other Organics(其他有機物):

            ≤0.1 ppmv

             Water(水):

            ≤1.5 ppmv

             Acidity as HF(酸化物,如氟化氫):

            ≤1.0 ppmv

             

             包裝

            容積

            重量

            連接閥門

             小鋼瓶

            44L 47L

            31Kg

            CGA580 CGA320 DISS716 QF-011

             

             

            應用:以純四氟甲烷或者和氧氣混合的方式,用于在CVD過程之前,對二氧化硅、氮化硅、多晶硅和一些硅金屬化合物進行的等離子刻蝕。

              

             

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